Onderzoekers bereiken fused silica met een hoge schadedrempel door chemisch etsen en laserpolijsten te combineren

Sommige onderzoekers hebben fused silica bereikt dat veel schade kan aanrichten.

Volgens Phys.org:

“Laserschade in fused silica, met name ultraviolette laserschade, is nog steeds een belangrijk probleem dat de ontwikkeling van krachtige lasersystemen beperkt. De traditionele verwerkingsmethode van fused silica gaat door de processen van slijpen en chemisch mechanisch polijsten (CMP). Deze methode is tijdrovend om een ultraglad oppervlak te verkrijgen en veroorzaakt gemakkelijk oppervlakte- en ondergronddefecten, wat resulteert in een significante verlaging van de oppervlaktebeschadigingsdrempel van het gesmolten silica.

“Onlangs combineerde een onderzoeksteam van het Shanghai Institute of Optics and Fine Mechanics van de Chinese Academie van Wetenschappen chemisch etsen en CO2-laserpolijsten om het gemalen gesmolten silica te verwerken. Chemisch etsen werd gebruikt om de ondergrondse defecten van de gemalen gesmolten silica te openen. Vervolgens werd CO2-laserpolijsten toegepast om de oppervlakteruwheid te verminderen.

“Dit gecombineerde proces kan niet alleen efficiënt een superglad oppervlak met een lage oppervlakteruwheid verkrijgen, maar kan ook de weerstand tegen beschadigingen van fused silica verbeteren. Dit werk werd gepubliceerd in de Optics Letters.

“Door schademorfologie en een defectanalyse werd aangetoond dat het gecombineerde proces de introductie van oppervlakte- en ondergrondse defecten, inclusief destructieve defecten, chemische structuurdefecten en fotoactieve mentale onzuiverheidselementen, voorkomt en fused silica verkrijgt met een lagere oppervlaktedefectdichtheid, waardoor het verkrijgen van een betere weerstand tegen schade.”

Bron