光學窗口:石英 vs 藍寶石 vs CaF₂ — 選型指南
This post is also available in:
在石英、藍寶石與 CaF₂ 光學窗口之間做選擇, 是一個由波長範圍、壓力額定、化學相容性與成本驅動的決定。石英(185–3,500 nm)以最低成本涵蓋 UV-Vis-NIR;藍寶石(170 nm–5.5 µm)延伸進中紅外、抗壓強度 3×,供高壓工作;CaF₂(130 nm–9 µm)伸進中紅外最深、但機械上較軟、微溶於水。波長是主要的篩選;其他標準再細化選擇。
光學窗口:石英 vs 藍寶石 vs CaF₂ — 選型指南
為 FTIR 光譜、雷射系統、半導體製程觀測窗、真空腔埠與高壓比色皿挑對的光學窗口材料。透射曲線、機械性質、化學耐受、安裝選項,以及決定三種主導材料中哪一種適合你應用的取捨。
光學窗口是個看似簡單的元件:一塊拋光的透明材料平板,讓光通過、同時把一側與另一側封住。材料的選擇決定哪些波長能通過、窗口能撐多大的壓力或溫度、能容忍哪些化學暴露,以及它如何與周圍硬體接合。選錯材料要花好幾個月重新設計;選對只是料表上的一行規格。
本指南比較實驗室與 OEM 光學窗口的三種主導材料: 熔融石英(185–2500 nm), 藍寶石(170–5500 nm + 極端機械性質),以及 氟化鈣 CaF₂(130–9000 nm IR 專用)。它們合起來實際上涵蓋了從 130 nm 深紫外到 9 µm 中紅外的整個有用 UV-Visible-IR 範圍。在它們之間的決定歸結為四個問題:什麼波長範圍、什麼機械環境、什麼化學暴露、什麼預算。
1. 為何窗口材料重要 — 四個選擇軸
指定光學窗口是一個四軸的選擇。每一軸都能排除一種或多種候選材料。
軸 1:波長範圍
你的應用運作在電磁波譜的哪裡。石英在 2.5 µm 以上截止;藍寶石在 5.5 µm 以上;CaF₂ 在 9 µm 以上。在深紫外端,CaF₂ 達 130 nm;石英達 185 nm;藍寶石達 170 nm。在透射範圍之外,材料就只是不透明。
軸 2:機械環境
窗口兩側的壓差、機械衝擊、振動、溫度衝擊。藍寶石遠遠最堅韌(莫氏 9、僅次於鑽石),在石英會裂的壓力容器應用裡能用。石英機械上普通。CaF₂ 是三者中最脆弱的——軟(莫氏 4)、脆、易因熱衝擊裂。
軸 3:化學暴露
溶劑、酸、鹼、電漿、水氣循環。石英與藍寶石高度惰性(標準的化學實驗室與製程工具材料)。CaF₂ 溶於礦酸、酸性蒸氣,甚至長時間接觸水——對 IR 比色皿,乾燥操作與存放在乾燥器裡是必須的。
軸 4:成本與可得性
數量級的預算:熔融石英是三者中最便宜的(典型 25 mm 窗口約 $10–30)。藍寶石是石英成本的 3–10 倍(單晶生長 + 拋光比非晶石英更難)。CaF₂ 成本與藍寶石相近、有時更便宜,但大直徑較難採購。
2. 詳細的透射光譜
熔融石英透射
Type 1 / JGS1 級熔融石英(深紫外合成級)顯示從 185 nm 到 2500 nm 的透射窗口,在多數可見光與 NIR 透射大於 90%。兩端都是銳利截止:185 nm 以下 SiO₂ 晶格吸收接手;2500 nm 以上羥基(OH)吸收帶與 Si-O 晶格振動使材料不透明。JGS2(標準 UV 級)在 220 nm 截止;JGS3(低 OH 的 IR 級)延伸到 ~3500 nm、代價是略損紫外透射。
藍寶石透射
合成單晶藍寶石(Al₂O₃)從 170 nm 到 5500 nm 透射。5.5 µm 以上 Al-O 晶格振動(多聲子吸收)使材料迅速不透明;透射從 5 µm 的 80% 降到 6 µm 的不到 10%。170 nm 的深紫外截止比石英好,對準分子雷射應用(193 nm ArF)有用。在可見光-NIR 範圍藍寶石的透射與熔融石英相當。
CaF₂ 透射
氟化鈣單晶三者中透射最寬:從真空紫外的 130 nm 到中紅外的 9000 nm。130 nm 的深紫外截止讓 CaF₂ 成為準分子雷射光學(193 nm ArF 雷射)與同步輻射光束線事實上的選擇。9 µm 的 IR 透射邊緣涵蓋 FTIR 光譜整個指紋區,讓 CaF₂ 成為 FTIR 樣品比色皿與 ATR 晶體的標準窗口材料。
3. 熔融石英窗口 — 主力
熔融石英(合成非晶 SiO₂)是多數實驗室與工業應用的預設光學窗口材料。寬廣的 UV-Vis-NIR 透射、優異的化學耐受、低熱膨脹、適中的成本,以及從 1 mm 到 200+ mm 直徑都容易取得,讓它成為任何 2.5 µm 以下窗口應用首先考慮的材料。
等級
- JGS1(Type 1 合成): 深紫外級、透射從 185 nm。最高純度;最低金屬雜質。是紫外雷射光學、深紫外光譜窗口與準分子相鄰應用的標準。MachinedQuartz 平板與圓片預設用這個等級(「Type 1 Material 185-2500 nm」)。
- JGS2(Type 2 熔融石英): 標準 UV-Vis 級;220 nm 截止。可接受用於 UV-Vis 分光光度計窗口與可見光應用;不適合深紫外。
- JGS3(Type 3,低 OH 的 IR 級): 靠移除羥基雜質把 NIR 透射延伸到 ~3500 nm;代價是略損紫外透射。用於延伸 NIR 的應用與雷射焊接光學。
優點
- 從 185 nm(JGS1)起的紫外透明——幾乎完整涵蓋 UV-Vis-NIR
- 對所有常見溶劑、稀酸與鹼化學惰性
- 低熱膨脹(0.55 × 10⁻⁶ /K)——在寬溫度範圍穩定、優異的熱衝擊耐受
- 工作溫度連續達 1100 °C、短期 1200 °C
- 相對藍寶石與 CaF₂ 便宜(現貨幾何典型 25 mm 窗口約 $10–30)
- 標準加工範圍內任何幾何都可供應、不收模具費
限制
- 透射在 2.5 µm 截止——不適合中紅外應用
- 硬度低於藍寶石(莫氏 5.5–6.5)——清洗時較易刮傷
- 脆——耐衝擊普通;安裝時防止尖銳撞擊
- 溶於 HF——不要用在含氫氟酸或氟化物電漿的環境
化學與材料細節見我們的 紫外截止指南 and 製造方法指南.
石英規格範例
標準拋光紫外平板
平整 · 透明 JGS1
毛面霧面 / 擴散圓片
研磨背面 · 均勻擴散
篩孔篩孔 / 穿孔
圖案化通孔
階梯溝槽 / 階梯片
客製非平面幾何
4. 藍寶石窗口 — 機械專家
合成單晶藍寶石(Al₂O₃,以柴可拉斯基、維諾伊、EFG 或 HEM 法生長)在窗口必須撐過惡劣機械環境時是對的選擇:高壓、機械衝擊、磨蝕流、惡劣電漿,或極端溫度。藍寶石是商用中僅次於鑽石第二硬的材料、對幾乎所有東西本質上惰性。
優點
- 硬度莫氏 9——正常操作中實際上防刮
- 抗壓強度約 2 GPa——撐得過容器觀測窗多巴的壓差
- 寬透射範圍 170–5500 nm——涵蓋紫外到 5.5 µm 的中紅外
- 高導熱係數(40 W/m·K,相較石英的 1.4)——更善於把吸收的雷射功率散熱
- 工作溫度在惰性氣氛中達 1500–1800 °C、空氣中 800 °C
- 對多數酸、鹼與電漿惰性;只在高溫下被熱磷酸、熔融鹼與 HF 侵蝕
- 雙折射在 c 軸很小但非零——對偏振敏感的應用指定「c-cut」或「0° 切」
限制
- 同尺寸熔融石英成本的 3–10 倍——單晶生長很貴
- 中紅外在 5.5 µm 截止——不適合超過 5.5 µm 的 FTIR 指紋區工作
- 雙折射造成隨偏振而變的透射——對偏振雷射要緊、對非同調光源較不要緊
- 比石英難製造——研磨與拋光較慢;複雜幾何更貴
- 不建議用於 200 °C 以上的 HF 或氟化物電漿環境
標準藍寶石規格
多數型錄藍寶石窗口是 Ø 1.5 mm 到 Ø 100 mm 的圓片、厚度 0.2–5 mm。客製矩形平板可供應、厚度 0.5–10 mm。晶體取向預設是 c 軸垂直於窗口面(0° 取向);其他取向可依特定偏振需求供應。
5. 氟化鈣(CaF₂)窗口 — 紅外專家
氟化鈣單晶是中紅外的專用窗口材料。它 130–9000 nm 的透射範圍是任何常見光學材料中最寬的——是指紋區(5–9 µm)FTIR 工作、193 nm 與 157 nm 準分子雷射光學,以及深紫外與紅外合併應用唯一實用的替代。
優點
- 透射 130–9000 nm——三者中最寬;涵蓋真空紫外到中紅外
- 低折射率(可見光 n ≈ 1.40)——三者中菲涅耳反射最低(未鍍膜每面約 3%)
- 不溶於多數有機溶劑
- FTIR 樣品比色皿、ATR 晶體、ArF 準分子雷射窗口的標準
限制(這是脆弱的那個)
- 軟——莫氏 4、清洗時易刮。只用軟的拭鏡紙或麂皮;絕不用紙巾或粗糙的擦拭
- 吸濕——長時間暴露於大氣水氣會劣化;潮濕環境下表面數月內起霧。存放在乾燥器或乾燥 N₂ 櫃
- 溶於礦酸與鹼,在低 pH 下連自來水都部分溶解
- 對熱衝擊敏感——在 > 50 °C/min 的突然溫度變化下裂。需要緩慢升降
- 在某些取向有雙折射——非偏振應用指定(111)切
- 較大直徑(Ø > 50 mm)因晶體生長限制變得很貴
6. 直接性質比較 — 什麼適合哪裡
下表把性質維度對應到勝出的材料。「最佳」指在這一軸上完勝的材料;當某一軸是決定性的限制時,就照此挑選。
| 選擇軸 | 最佳 | 可接受 | 避免 |
|---|---|---|---|
| 深紫外(130–180 nm)透射 | CaF₂ | 藍寶石(170+ nm) | 石英 |
| UV-Vis(200–700 nm)透射 | 石英(便宜) | 藍寶石 | CaF₂(殺雞用牛刀) |
| NIR(1–2.5 µm)透射 | 石英(JGS3 最佳) | 藍寶石 | — |
| 中紅外(2.5–5 µm) | 藍寶石 | CaF₂ | 石英(不透明) |
| 中紅外(5–9 µm 指紋) | CaF₂ | — | 石英、藍寶石(不透明) |
| 高壓(窗口兩側 > 10 bar) | 藍寶石 | — | 石英、CaF₂(破裂風險) |
| 機械衝擊 / 震動 | 藍寶石 | — | CaF₂(非常脆弱) |
| 成本敏感的量訂 | 石英 | — | — |
| HF / 氟化物電漿暴露 | 藍寶石(冷時) | CaF₂ | 石英(HF 會溶它) |
| 吸濕環境 | 石英 | 藍寶石 | CaF₂(數月內起霧) |
| FTIR / ATR 晶體 | CaF₂ | (特殊:> 9 µm 用 ZnSe、Ge) | 石英、藍寶石 |
| 紫外雷射光學(193 nm ArF) | CaF₂ | JGS1 石英 | JGS2 石英 |
7. 平板 vs 圓片 vs 客製幾何
光學業界把規格標準化為三種形式。每一種配不同的安裝硬體與應用。
圓片(主導規格)
直徑 Ø 1.5 mm 到 200 mm;厚度 0.2 到 10 mm。圓片配標準光學座(一吋、半吋、mm 級精密座)、O 形環溝槽、固定環組件與螺紋筒窗口。是雷射系統、FTIR 樣品比色皿窗口、真空腔觀測窗與所有一般光譜窗口的預設。
方形 / 矩形平板
常見尺寸 10 × 10 mm 到 100 × 100 mm;厚度 0.5 到 5 mm。平板用於:機架式光學濾片、客製座槽、分光鏡基板,以及圓窗無法有效拼接的應用。MachinedQuartz 的石英平板系列從 1 × 1 mm(超微型)起、到 100 mm、依需求更大。
客製幾何
標準規格之外:供雷射腔的斜邊窗口、抑制條紋的楔形窗口、供偏振雷射光學的布魯斯特角窗口、供穿線的鑽孔窗口、供 kovar 接合腔埠的研磨邊可密封窗口。只要設計符合我們標準加工範圍,全都可依需求供應、不收模具費。
客製幾何範例
圓片 / 平板客製尺寸
Ø 2 到 100+ mm 範圍
鑽孔通孔鑽孔
線材 / 感測器穿通
曲面曲面 / 球面
透鏡基板 / 窗口罩
有現貨現貨平板
0.2 到 5 mm 厚度
8. 安裝、密封與表面規格
安裝方法
- 螺紋固定環: 雷射光學與儀器觀測窗的標準方法。窗口坐在凹槽裡;螺紋環壓向 O 形環或橡膠墊圈。允許快速更換;窗口上機械應力最小。
- O 形環面密封: 供真空與壓力應用。窗口面壓向 Viton、EPDM 或 PTFE O 形環;螺栓均勻壓緊。指定額定壓力來選窗口厚度(> 10 bar 需要藍寶石)。
- 環氧接合: 供永久安裝。光學級環氧(Norland 61、EPO-TEK 301)把窗口接到金屬法蘭。固化的組件氣密到 ~10⁻⁶ mbar;真空工作低出氣。
- 玻璃對金屬封(Kovar 接合): 供高真空(< 10⁻⁶ mbar)與高溫應用。石英或藍寶石透過直接接合或中介焊料玻璃熔到 Kovar(或其他匹配熱膨脹係數的合金)法蘭。特殊製造。
- 銦 / 金封: 供超高真空(< 10⁻⁹ mbar),如研究真空系統與同步輻射光束線。軟金屬密封環;窗口面在密封表面必須光學拋光且原子級平整。
你應該指定的表面規格
| 規格 | 例行 | 精密 | 雷射級 |
|---|---|---|---|
| 表面平整度 | λ/2(310 nm) | λ/4(155 nm) | λ/10(60 nm) |
| 表面品質(刮痕-麻點) | 60-40 | 40-20 | 20-10 或 10-5 |
| 平行度 | < 5 角分 | < 1 角分 | < 10 角秒 |
| 表面粗糙度 Ra | < 5 nm | < 2 nm | < 0.5 nm |
| AR 鍍膜 | 通常未鍍膜 | 寬頻 AR | 設計波長的 V 形鍍膜或雙頻 AR |
工業 / 製程 / 非雷射工作指定「例行」。實驗室光譜儀與多數雷射系統指定「精密」。只在雷射功率密度高到需要時才用「雷射級」(通常 > 10 W/cm² CW 或短脈衝高重複率)。更嚴的規格成本更高、交期更長;不要過度規格。
9. 應用範例
FTIR 樣品比色皿(CaF₂)
5–9 µm 指紋區的 FTIR 光譜需要 CaF₂ 窗口。標準 FTIR 樣品比色皿構造:兩片 CaF₂ 窗口由校正過的 PTFE 或鉛間隔片(光程 0.025 到 0.5 mm)隔開、夾在不鏽鋼座裡。CaF₂ 窗口必須極小心操作——乾燥環境、只用軟拭布清洗、使用間存放在乾燥器裡。比色皿構造細節見我們的 可拆卸比色皿指南 。
準分子雷射光學(CaF₂ 或 JGS1 石英)
193 nm ArF 與 248 nm KrF 準分子雷射系統用 CaF₂ 做最苛刻的光學(解理窗口、光束整形板)、用 JGS1 熔融石英做較不關鍵的元件。深紫外透射與抗雷射誘發損傷是決定性的限制;雷射腔元件典型的表面品質是刮痕-麻點 10-5。
製程觀測窗(藍寶石)
CVD 腔、PVD 系統、半導體蝕刻工具與高壓反應器用藍寶石觀測窗,取其機械堅固、抗電漿與光學清晰的結合。典型規格:Ø 25–100 mm 藍寶石圓片、為壓力額定厚度 5–10 mm,透過金屬對玻璃封或 Viton O 形環裝在 Conflat(CF)法蘭裡。
真空腔觀測窗(石英或藍寶石)
超高真空(10⁻⁹ 到 10⁻¹¹ mbar)真空系統用石英或藍寶石窗口。石英較便宜、對非加壓觀測足夠;藍寶石供有壓差或暴露於電漿的窗口。兩種材料都接合到 Kovar 或鉬玻璃法蘭;Conflat 安裝的觀測窗已商業標準化。
雷射腔端鏡(藍寶石基板)
高功率雷射系統(Nd:YAG、Ti:Sapphire)用藍寶石基板做輸出耦合鏡與後鏡,因為藍寶石的高導熱(把吸收的雷射功率散熱)與機械耐久。每面鍍上適當的介電質疊層。
紫外固化系統(JGS1 石英)
供黏著劑、塗層與 3D 列印樹脂的深紫外(200–300 nm)固化系統,在燈罩裡用 JGS1 石英窗口。成本敏感的應用;石英是比藍寶石或 CaF₂ 更明顯的選擇。
高溫計窗口(藍寶石或石英)
觀測高溫製程(鋼鐵廠、玻璃爐、半導體 RTP 腔)的工業高溫計,最高溫應用用藍寶石、中溫工作用石英。為高溫計波長(通常 0.9–1.6 µm)指定 NIR 寬頻 AR 鍍膜。
10. 決策矩陣 — 應用對材料
| 應用 | 建議 | 替代 | 備註 |
|---|---|---|---|
| UV-Vis 分光光度計窗口 | JGS1 熔融石英 | 藍寶石 | 石英是通用預設;只有機械環境要求時才用藍寶石 |
| FTIR 樣品比色皿窗口 | CaF₂ | ZnSe(5-15 µm 延伸) | CaF₂ 是 1-9 µm 的標準;ZnSe 供 5-15 µm 或耐濕替代 |
| 193 nm ArF 準分子雷射光學 | CaF₂ | JGS1 熔融石英 | CaF₂ 給最高功率密度;JGS1 給預算受限的替代 |
| 真空腔觀測窗(超高真空、無壓力) | JGS1 熔融石英 | 藍寶石 | 石英配 Kovar;較便宜、只觀測就足夠 |
| 高壓比色皿觀測窗(> 10 bar) | 藍寶石 | 石英、CaF₂ | 藍寶石是唯一有足夠抗壓強度的材料 |
| 電漿腔觀測窗 | 藍寶石 | 石英(溫和電漿) | 藍寶石抗氟與氯電漿;石英在氟電漿中侵蝕 |
| 製程高溫計窗口(高溫) | 藍寶石 | JGS1 熔融石英 | 藍寶石供 > 1000 °C 的爐溫;石英供中溫 |
| 紫外固化燈罩 | JGS1 熔融石英 | CaF₂(殺雞用牛刀) | 成本要緊;JGS1 涵蓋 200–300 nm 紫外固化帶 |
| 拉曼光譜探頭窗口 | JGS2 熔融石英 | 藍寶石 | 石英供可見光拉曼;探頭接觸惡劣環境則用藍寶石 |
| 望遠鏡改正板 | JGS1/JGS2 熔融石英 | BK7(較便宜) | 石英供低熱膨脹;BK7 供成本敏感的業餘工作 |
| 高功率雷射輸出耦合鏡基板 | 藍寶石 | JGS1 熔融石英 | 藍寶石的導熱把吸收的功率散掉 |
| 光纖穿通窗口 | JGS1 熔融石英 | 藍寶石 | 石英匹配常見光纖外被材料的熱膨脹係數 |
11. MachinedQuartz 型錄系列
MachinedQuartz 以三種材料製造窗口、橫跨數百個現貨 SKU。標準範圍的設計可客製幾何、不收模具費;最低訂購 2 件。
| 類別 | SKU 數 | 標準範圍 | 瀏覽 |
|---|---|---|---|
| 熔融石英平板(方形) | 184 | 1 × 1 mm 到 100 × 100 mm;厚度 0.2–3 mm;預設 JGS1 | 石英平板 |
| 熔融石英圓片(圓形) | 106 | Ø 2 mm 到 100 mm;厚度 0.5–5 mm;預設 JGS1 | 石英圓片 |
| 藍寶石薄片 / 圓片 | 100 | Ø 1.5 mm 到 100 mm;厚度 0.2–5 mm;預設 c 軸切 | 藍寶石系列 |
| 氟化鈣(CaF₂)窗口 | 61 | Ø 6 mm 到 50 mm;厚度 0.6–3 mm;預設(111)切 | CaF₂ 窗口 |
客製製造選項
- 楔形窗口(1–5 角分楔角,供抑制條紋)
- 供偏振雷射光學的布魯斯特角窗口
- 供密封應用的斜邊或研磨邊
- 鑽孔窗口(供線材、氣體進給、感測器穿通的通孔)
- AR 鍍膜(V 形單線鍍膜、寬頻 UV/Vis/NIR/IR)
- 供擴散應用的研磨 / 霧面背面
- 特定晶體取向(藍寶石 c 切、a 切、r 切;CaF₂(111)或(100))
瀏覽型錄
相關指南
12. 常見問題
不行,指紋區不行。熔融石英透射到約 2.5 微米;FTIR 指紋區從 5 到 9 微米、石英在這裡基本上不透明。FTIR 樣品比色皿、ATR 晶體與任何 2.5 微米以上的中紅外光學工作,用 CaF2。9 微米以上的 FTIR 工作,ZnSe 或 Ge 是標準替代。
JGS1 是合成高純度深紫外級;從 185 nm 透射;金屬雜質最低;用於紫外雷射光學與深紫外應用。JGS2 是標準 UV-Vis 級;220 nm 截止;比 JGS1 便宜;可見光窗口的預設。JGS3 是低 OH 級、NIR 透射延伸到約 3500 nm;代價是略損紫外透射;用於雷射焊接光學與延伸 NIR 的應用。本頁的光學窗口,MachinedQuartz 預設用 JGS1(Type 1 Material)。
單晶生長。合成藍寶石是由熔融的 Al2O3 以柴可拉斯基、維諾伊、EFG 或 HEM 法、在超過 2000 攝氏度、用昂貴的銥或鉬坩堝生長。每根晶棒要花數天到數週生長。熔融石英是非晶的,由熔化天然石英砂或從氣相化學沉積 SiO2 製成;每公斤快得多、便宜得多。單晶生長成本是藍寶石固有的;預期每片窗口成本是等效熔融石英的 3 到 10 倍。
CaF2 在固體形式下無毒。危害是脆弱、不是毒性。CaF2 吸濕(暴露於水氣數月到數年會劣化)、軟(莫氏 4——易刮)、對熱衝擊敏感(在每分鐘超過 50 度的突然溫度變化下裂),且微溶於礦酸。用棉手套或指套操作;只用軟拭鏡紙或麂皮清洗;存放在乾燥器裡。操作得當,CaF2 窗口用好幾年;操作不當,用幾週。
多數應用不用。未鍍膜的石英、藍寶石與 CaF2 窗口透射約 92%(8% 損失於兩面的菲涅耳反射)。對每個百分比都要緊的雷射光學,單線 V 形鍍膜 AR 把設計波長下的透射推到 99% 或更高。對寬頻應用,多層寬頻 AR 鍍膜在 200 到 1000 nm 範圍給 95 到 98%。訂購 AR 鍍膜窗口時指定工作波長;工業與多數實驗室應用預設未鍍膜。
例行工業工作:表面平整度 λ/2、刮痕-麻點 60-40、平行度小於 5 角分。實驗室光譜儀與多數雷射系統:λ/4 平整度、刮痕-麻點 40-20、平行度小於 1 角分。高功率密度的雷射級光學:λ/10 平整度、刮痕-麻點 20-10 或 10-5、平行度小於 10 角秒。指定你實際需要的;更嚴的公差成本更高、卻不帶來好處。
冷 HF:可以,藍寶石本質上惰性。熱 HF(約 200 攝氏度以上)或熱磷酸:藍寶石緩慢被侵蝕。氟電漿:藍寶石耐受。相較之下熔融石英在任何溫度都被 HF 迅速溶解,所以石英對 HF 環境是錯的。CaF2 是三者中最耐氟的(畢竟它就是氟化鈣),但 CaF2 的其他限制通常讓它不適合腔室觀測窗工作。
楔形窗口的兩個光學面以不平行角度(通常 1 到 5 角分楔角)研磨。楔角打破平行平面窗口在同調雷射光束中形成的標準具效應(前後表面反射干涉、在光束輪廓產生條紋、在光譜量測產生雜訊)。對非同調光或波長調變系統,平行窗口沒問題。對單頻連續波雷射工作、窄線寬雷射與任何高精度干涉工作,指定楔形窗口。
我們把 AR 鍍膜外包給合格的真空沉積夥伴。我們接受客戶指定的鍍膜設計(例如「633 nm V 形鍍膜、R 小於 0.5%」、「寬頻 AR 400-700 nm、R 平均小於 2%」),向夥伴採購鍍膜,再出貨完成的 AR 鍍膜窗口。AR 鍍膜零件交期 25 到 35 個工作天,相較未鍍膜的 7 到 14 天。
藍寶石堅固。先用壓縮空氣除塵;再在無棉絮拭布(拭鏡級拭布、非 Kimwipe)上滴一滴丙酮或異丙醇;朝一個方向擦(不要搓)。頑固污染,用稀肥皂水沖、再 IPA。CaF2 脆弱。先用壓縮空氣除塵;再在麂皮或拭鏡紙上滴一滴乾甲醇;朝一個方向輕擦。絕不單用水(CaF2 微溶);絕不搓;清洗後立刻存放在乾燥器裡。兩種材料指紋都是真正的問題——戴棉手套。
13. 免責聲明與註記
材料規格 本頁上的是商用級單晶藍寶石與 CaF₂、以及合成熔融石英(JGS1 / JGS2 / JGS3)的典型值。具體材料性質取決於供應商、生長方法與特定批次。決定性的規格,參見每次出貨隨附的分析證書。
應用建議 是基於典型光學工程實務的一般指引。特定應用可能有更進一步約束選擇的要求(雷射誘發損傷閾值、真空相容性認證、生物相容性、法規遵循)。下單前對著你應用的完整規格驗證。
抗反射鍍膜 外包給真空沉積夥伴。鍍膜性能規格來自鍍膜廠商的證書;MachinedQuartz 整合並出貨鍍膜窗口、但不自家沉積鍍膜。
商標聲明。 Norland 61 與 EPO-TEK 301 是各自擁有者的商標。對特定競品(遠紅外用 ZnSe、Ge)的引用僅為技術比較。
資訊時效: 最後審閱 2026 年 5 月。材料可得性與現貨 SKU 範圍可能改變。
Recent Comments